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Global Nanoscope

概述、洞察和展望在一個工藝步驟中：以前在半導體製造中不可想像的事情，Global Nanoscope 使其變得可測量。只需 30 秒即可完成晶圓的整個表面或任何反射表面的測量，從而提供可靠的奈米級洞察，保護您的製程鏈。無論是晶片製造中的入庫檢驗，還是晶圓製造過程中的製程控制：Global Nanoscope 讓先前無法測量的東西變得可見。

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規格

優勢和特點

Global Nanoscope 整合了創新技術和多種應用領域，具有無縫整合性和卓越支援等經過驗證的優勢。

全表面測量：為您提供無與倫比的競爭優勢：縫合已成為過去。
最高速度： 30 秒內，GNS 即可測量您的基質。 1-2 分鐘後，您將收到所確定數據的 3D 評估。
真正的奈米形貌： GNS 可提供可靠的奈米高度分辨率以用於分析目的。
對振動不敏感：許多高精度計量系統只有設定為絕對無振動才能可靠使用。然而，GNS 能夠抵禦現代生產環境中的地板振動和運動幹擾。
經濟實惠：儘管科技含量高，GNS 的維護成本卻非常低，而且所有零件都非常堅固耐用。
全自動且可整合： GNS 是一種全自動測量系統，可用於任何工作流程環境。
諮詢與支援：我們和我們的當地經銷商可在您的 GNS 的整個使用壽命期間提供個人化規劃、諮詢和支援。

可能的應用

GNS 的應用可能性與其功能範圍一樣廣泛。讓我們激勵您！

使用 Global Nanoscope 可以快速、非接觸地對任何表面進行評估和分類，例如- 凹坑識別- 缺陷分析- 表面峰谷分析
晶圓製造：用於對晶圓製造過程中的多個生產步驟（例如研磨、拋光）進行快速、全面的製程控制
晶片製造： Global Nanoscope 特別適合對要處理的晶圓進行快速進貨檢驗。
根據 SEMI M43 晶圓奈米形貌報告指南進行分析：確定奈米範圍內符合標準的細節值。
玻璃和光學工業：所有反射表面均適合透過 Global Nanoscope 進行奈米精度測量。

創新技術

您已經了解魔鏡方法了嗎？我們專有且經 AMA 認可的 Advanced Makyoh 技術比以前可測量的更進了一步：

E+H Metrology 先進的 Makyoh：傳統的 Makyoh 系統提供二維灰階影像，顯示表面的不規則性。然而，這種表面結構的實際高度對於工業應用至關重要，特別是在晶圓生產等敏感過程中。因此，傳統的 Makyoh 系統僅進行定性測量：通常，標準 Makyoh 影像非常模糊。
然而，基於E+H Advanced Makyoh的系統在一次測量過程中確定了表面的真實高度資訊。
Global Nanoscope 也提供經典的 2D 魔鏡影像：但解析度非常高。因此，我們的系統能夠進行定性和定量測量。
進階 Makyoh 影像資料可根據需要進一步處理：用於檢查、複雜的 3D 分析或透過現有 IT 環境和控制系統進行評估。